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卓上型プラズマ表面改質装置『miniQ GD』シングルチャンバー

miniQGD
★ 特徴

 miniQ GDは、使いやすさを重視してシンプルに設計され、TEM1グリッドの表面修飾を可能にし、高分子のイメージングを鮮明にします。空気プラズマ用の真空チャンバーを備え、単純なグロー放電親水化アプリケーション用で 表面修飾を寛容に行えます。

● 機能面
  • 堅牢なタッチパネル
  • 省スペース
  • 防爆ガード付きチャンバー
  • 容易なチャンバー取り外し

● 操作性
  • 簡単な操作
  • ユーザー操作は最小限
  • 事前登録されたレシピのみ
  • ボタンを押してレシピ実施
項目 内容
装置筐体 幅225mm×奥行き420mm×高さ325mm(蓋開時480mm)
重量 8.7kg
チャンバー 外径130/内径120 mm 高さ127mm
電源 AC90~240 V 50/60 Hz 1400 W(RP含む)
到達真空度 2×10-2 mbar
プロセス グロー放電
スパッタ電流 10、20、30 mA
スパッタ時間 15、30、60、90 sec

★ モデル
GloQubePlusMiniQGD 表面改質 親水化

miniQ GD

  • 空気プラズマ

 空気をプロセスガスとするグロー放電により、試料表面に吸着した不純物と電子の付着を除去して濡れ性を改善します。 主に、疎水性のTEMグリッド(カーボンフィルム)を親水化することで粒子や分子の広がりを改善する目的で使用されます。

carbon surface_before glow discharge
carbon surface after glow discharge

カーボン表面上の水滴(グロー放電処理前)

カーボン表面上の水滴(グロー放電処理後)

オプション一覧

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