リモートプラズマクリーナー EM-KLEEN
★ 特徴
リモートプラズマクリーナー『EM-KLEEN』は、 分離されたプラズマソースとコントローラで構成され、ソースはFE-SEMやXPS、 EPMAなどの 試料チャンバーもしくは試料交換室などに接続されます。 接続された試料チャンバーやチャンバー内の試料をプラズマクリーニングすることで、 高真空装置におけるカーボン系コンタミネーションを予防・除去します。
プラズマソース内で生成された活性酸素ラジカルが、 真空装置付随の ターボ分子ポンプで試料室内に引かれて拡散します（ダウンストリーム）。 残留したハイドロカーボンガス分子とラジカルが化学的に反応 （低温灰化=アッシング）し、 反応による副生成物は真空ポンプで試料室外に 排出されることで、 試料室内をクリーニングします。
● 機能面- ターボ分子ポンプ領域で運転可
- 一般的な高真空チャンバー向け
- ハイスピードクリーニング
- プラズマ発光強度センサー内蔵
- 真空ゲージ内蔵
- 内部温度センサと冷却ファン
- 微量金属汚染を低減する構造設計
- レシピ登録・管理機能
- オートガス流量制御
● 操作性
- 自由度の高い取付け
- オート制御により複雑な調整不要
- タッチスクリーン式カラーパネル
- 秀逸なユーザーI/Fデザイン
- SafeモードとExpertモード
- 環境に合わせて選べるコントローラ
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| アプリケーション | 一般的な高真空チャンバー向け |
| 主な用途 | SEM、TEM、XPS、SIMS、AES |
| チャンバー | 石英ガラスチューブ |
| プラズマ方式 | ICP（Inductively Coupled Plasma）[誘導結合型] |
| RF出力（@13.56MHz）※1 | 0～75 W |
| 動作真空度 | 7 mTorr ～ 1 Torr |
| 真空チャンバー真空度※2 | 0.1 mTorr ～ 1 Torr（ダウンストリーム側） |
| 真空計 | マイクロピラニゲージ内蔵、大気 ～ 1 e- 4 Torr |
| インピーダンス整合 | 固定 |
| 腐食性ガス | 不可 |
| ソースマウント形状 | NW / KF40（オプション：CF 2.75”[CF70]） |
| プラズマソースサイズ | φ86×168 mm、1 kg |
| 標準コントローラサイズ | W 305×D 340×H 200 mm、7 kg |
| 電源 | AC 90～250 V、 50/60 Hz、400 W以下 |
※1 RF出力：日本国内では、初期設定でRF出力を49Wまでに制限しています。
“高周波利用設備申請書”の届出により、制限を解除し、75Wまで使用可能となります。
※2 真空装置の仕様（特にチャンバーサイズやポンプスピード）やソースの設置個所、使用目的や使用方法により大きく異なります。
オプション
- EM-KLEENのオプションは以下の通りです。一覧にない仕様はお問い合わせください。
- ソースマウントをCF 2.75インチ（CF70）へ変更
- ラックマウントコントローラ
- 各社SEMポート用NW/KF40アダプター
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